“模型结果出来了！问题很可能出在光刻胶的链式反应上！能量剂量和曝光时序的耦合效应比我们预想的还要敏感！尤其是这个‘拐点’……”
他指着报告上一条陡峭攀升的曲线：
“看这里！能量波动哪怕只有0.5%，在那个毫秒级的曝光窗口，就足以引发局部过曝，形成黑线！”
倪老浑浊的眼睛瞬间锐利起来，像鹰隼锁定了猎物。
他一把抓过报告，浑浊的目光紧紧锁住凯文指出的那处陡峭曲线。“0.5%？毫秒级窗口？”
他喃喃自语，眉头紧锁，“也就是说，我们现有的光刻胶配方和工艺控制精度，在1纳米尺度下，已经达到了理论极限的临界点？差的不是设备，是材料本身？”
凯文用力点头，汗水沿着额角滑落：
“是的！传统光刻胶的分子链结构在EUV高能光子冲击下的稳定性，在1纳米尺度下根本扛不住！”
“我们需要全新的材料！一种……一种能在这个能量密度和时间尺度下保持‘刚性’，又能被精确‘切断’的东西！”
整个区域的研究员们都围了过来，空气凝重得几乎能拧出水。
他们太清楚这意味着什么——这绝非简单的工艺微调，而是一场需要重构基础的材料学革命！时间，成了最奢侈也最致命的敌人。
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